集成內(nèi)差探測相干接收機測試

為了檢測復雜的調(diào)制光信號，QIF業(yè)已定義了一個電光元件，通常被稱為集成內(nèi)差探測相干接收機（ICR）。該元件由光元件和電光元件構成，可作為被測器件。

這種混合元件需要整合所包含的多個元器件，從而作為黑盒相干接收機進行無縫操作。

該集成元件應當在研發(fā)和制造階段接受測試。

N4392A提供選件310和430，以測試此類器件，并提取用于表征該元件特性的參數(shù)。

使用N4392A，您將能夠在等同于最終應用的環(huán)境中對元件執(zhí)行測試，從而對元件的性能充滿信心：

-  N4392A在檢測頻帶中生成差拍信號并發(fā)送到ICR光輸入端，即可執(zhí)行這種測試

-  該測試適用于驗證ICR在反射噪聲減損和所有失真時的固有性能

-  通過一個接近完美的差拍信號生成另一個ICR信號時，IQ和星座圖能夠顯示該信號的噪聲與失真用于量化信號質(zhì)量的相同參數(shù)（EVM、IQ偏置、IQ失衡、正交誤差）也可用來量化該元件的股友性能

-  在頻譜顯示中，鏡像抑制能夠很好地反映在相干接收機中通道與PIN二極管之間的失衡良好的鏡像抑制和較高的共模抑制比意味著接收機的平衡性能很高

鏡像抑制能夠很好的地反映光接收機中的潛在失真。大于35dB的鏡像抑制率表明，均衡PIN二極管具有極高的CMRR,且被測ICR的I-Q通道經(jīng)過了適當?shù)钠菩Ｕ?/p>

EVM是考量復雜調(diào)制信號整體質(zhì)量的重要指標。這一概念可應用于上述測試：在ICR中生成一個差拍信號，并采取復雜調(diào)制信號的分析方法對其進行分析。這可以仿真ICR的理想激勵。通過執(zhí)行這個測試，您可在被測器件的接收機帶寬和數(shù)字轉(zhuǎn)換器帶寬范圍內(nèi)，對單個頻率點上的EVM進行測量。EVM測量可使您進一步分析被測器件，確保每個被測頻率點上的無失真測量結果都具有良好的EVM。